超声雾化cvd管式炉(mist-cvd雾化化学气相沉积mist chemical vapor deposition)

发布时间: 2020-10-21 22:20:23    浏览次数:5194

设备简介:

本设备是一款气溶胶辅助气相沉积设-aacvd(使用液体/气体的气溶胶的前驱物成长在基底上),针对于燃料电池、zno透明导电薄膜。此款仪器有三个主要模块组成:微小流量液体高精度传输系统、超声雾化系统、1200℃管式炉组成。此种技术适合使用非挥发的前驱物,可广泛应用于纳米材料制备、电极材料包覆复合等方面。

  


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