cvd系统t1700-xtig2z
发布时间： 2017-11-16 22:28:23 浏览次数：5787
设备简介：
化学气相沉积(cvd)是指化学气体或蒸汽在基质表面反应合成涂层或纳米材料的方法，是半导体工业中应用非常广泛的用来沉积薄膜材料的技术，包括大范围的绝缘材料，以及大多数金属材料和金属合金材料。为此我们研发成套的cvd镀膜系统，适用于各大高校材料实验室、科研院所、环保科学等领域
| nbd-101e嵌入式操作系统中英文互换图形界面，7寸真彩触屏输入，智能式人机对话模式，非线性式样温度修正； | |||||||||
产品型号 | nbd-cvdt1700-50tig2z | nbd-cvd t1700-60tig2z | nbd-cvd t1700-80tig2z | |||||||
炉管尺寸 | φ50*1000mm | φ60*1000mm | φ80*1000mm | |||||||
工作温度 | ≤1650℃ | |||||||||
加热区尺寸 | 310mm | |||||||||
升温速率 | ≤20℃/min | |||||||||
电气规格 | ac 220v 4.5kw | |||||||||
气体系统（可选购） | 流量计类型 | 浮子流量计 | 质量流量计 | |||||||
管道示意图 |
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进气接口数量 | 2、3、4（多路可选） | |||||||||
流量范围 | 20-250/20-800ml/min(多量程可选) | 50/100/200sccm(多量程可选) | ||||||||
工作压差范围 | 0-0.15mpa | |||||||||
低真空系统（可选购） | 真空泵型号 | nbd-1.5c | nbd-3c | nbd-4c | ||||||
抽气速率 | 1l/s | 3l/s | 4l/s | |||||||
进排气口尺寸 | φ8mm宝塔接头 | φ8mm宝塔接头 | kf16/25 | |||||||
极限压力 | 1000pa | 100pa | 10pa | |||||||
工作温度 | 5-40℃ | |||||||||
电气规格 | ac220v | |||||||||
高真空系统（可选购） | 真空泵型号 | nbd-103(a) | nbd-103(b) | nbd-103(c) | ||||||
抽气速率 | 110l/s | 600l/s | 700l/s | |||||||
真空测量计 | 复合真空计 | |||||||||
极限压力 | 10^-3pa | 10^-4pa | 10^-5pa | |||||||
工作温度 | 5-40℃ | |||||||||
电气规格 | ac 220v | ac 220v | ac 380v | |||||||
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