cvd系统t1500-xtid3z
发布时间: 2017-11-16 19:59:06 浏览次数:6012
设备简介:
化学气相沉积(cvd)是指化学气体或蒸汽在基质表面反应合成涂层或纳米材料的方法,是半导体工业中应用非常广泛的用来沉积薄膜材料的技术,包括大范围的绝缘材料,以及大多数金属材料和金属合金材料。为此我们研发成套的cvd镀膜系统,适用于各大高校材料实验室、科研院所、环保科学等领域;
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