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气相升华炉

发布时间: 2025-09-05 00:57:16    浏览次数:342

气相升华炉是一个材料科学、化学或物理化学领域的术语,它描述的是一种物质(通常是固体)不经过液态,直接转变为气态的过程**,并且这个过程发生在气相环境(如特定气氛、真空或载气中)或与气相行为密切相关。


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设备特点:

高纯度提纯能力

这是气相升华炉最主要的功能。通过控制温度梯度,目标物质升华后在冷区凝华,而杂质(挥发性不同或不挥发)则留在源区或分布于不同温区,从而实现有效分离,可将材料纯度提升。

可控的温度梯度:

设备内部设计有明确的“热区”(升华区)和“冷区”(凝华区)。通过多温区独立控温形成稳定、可调的轴向或径向温度梯度,精确控制升华和凝华的位置与速率。

封闭式真空/气氛环境:

炉体为全密封结构,可抽至高真空(10⁻³ ~ 10⁻⁵ pa)或通入高纯惰性气体(如ar, n₂),防止材料在高温下氧化、分解或与环境气体反应,保证提纯或生长过程的纯净性。

设备名称

气相升华装置

供电电源

ac 220v

额定功率

1.2kw

控温精度

±1℃

加热元件

伴热带

最高温度

400℃

进料罐容积

2l

四路质量流量控制器

3路进混气罐:丙烯500sccm;

氢气200sccm;氩气500sccm

1路进升华罐:氩气500sccm

控制系统

1、烧结工艺曲线设置:动态显示设置曲线,设备烧结可预存多条工艺曲线,每条工艺曲线可自由设置;2、可预约烧结,实现无人值守烧结工艺曲线烧结;

3、实时显示烧结功率电压等信息并记录烧结数据,并可导出实现无纸记录;

4、具有实现远程操控,实时观测设备状态;

5、温度校正:主控温度和试样温度的差值,烧结全程进行非线性修正。

温度精度

/- 1℃

净重

72kg

设备使用注意事项

1、设备炉膛温度≥300℃时,禁止打开炉膛,避免受到伤害;

2、炉膛连续使用产生的轻微裂纹属于正常现象,不影响设备的正常使用。

ag真人试玩平台的服务支持

一年有限保修,提供终身支持(保修范围内不包括易耗部件,例如处理管和o形圈,请在下面的相关产品处订购更换件。)

一、 高纯度材料提纯(最主要应用)

这是气相升华炉最经典和广泛的应用,用于将材料的纯度提升至6n99.9999%)甚至7n99.99999%)级别。

半导体材料:

硅(si)、锗(ge):通过区域熔炼升华法进行深度提纯,是制备高纯单晶硅(用于集成电路、太阳能电池)前道工序的关键步骤。

化合物半导体:提纯gaaspinsb等元素或其化合物(如gaas粉料),用于制备高性能的iii-v族半导体材料。

光电与显示材料:

有机发光材料(oled):提纯小分子有机半导体材料(如alq₃、npbtpd等),去除杂质以提高器件的发光效率、寿命和稳定性。

有机光伏材料:提纯用于有机太阳能电池的给体/受体材料。

荧光粉/磷光体:提纯稀土掺杂的荧光粉原料,提高发光纯度和亮度。

核工业材料:

核燃料与靶材:提纯铀、钚的化合物或用于中子源的材料(如pora化合物,需在严格防护下进行),去除中子毒物杂质,提高核性能。

特种化学品与元素:

碘(i₂)、硫(s):提纯高纯碘用于医药、电子工业;提纯高纯硫用于科研或特殊合成。

砷(as)、硒(se)、碲(te):提纯用于半导体、光伏(如cdte)、合金添加剂。

三氧化二砷(aso₃):医药或科研用高纯试剂的制备。

高纯金属:

对某些易升华的金属或其卤化物进行提纯,如汞(hg) 的纯化(虽然形态特殊,但原理类似)。

二、 晶体与薄膜生长

利用升华物质在特定基底或冷区定向凝华的特性,生长单晶或制备薄膜。

单晶生长:

将高纯原料在热端升华,蒸汽在放置了籽晶的冷端凝华并外延生长,形成大尺寸、高质量的单晶。适用于一些难以用传统熔体法生长的材料。

物理气相沉积(pvd):

作为一种特殊的pvd技术(有时称为升华-凝华法),将源材料在高温区升华,蒸汽在温度较低的衬底上凝华成膜。

应用:制备有机半导体薄膜(用于oledotft)、某些无机薄膜(如硫族化合物薄膜),尤其适用于热敏感或不易蒸发的材料。

粉末形态控制:

通过控制凝华条件(温度、气氛),可以得到特定形貌(如片状、针状)和粒径分布的超细、高纯粉末,用于催化剂、医药等领域。

三、 材料研究与分析

相变行为研究:研究物质在高温低压下的升华特性、相图。

杂质行为研究:观察不同杂质在升华过程中的分离行为,为提纯工艺优化提供依据。

小批量样品制备:为实验室研究提供高纯度的实验样品。

总结:

气相升华炉的应用领域高度集中在高端材料的精炼与制备:

核心是提纯:在半导体、光电显示、核工业领域,它是获取超高纯度原材料的“净化器”。

特色是生长:在有机电子、特种晶体领域,它是一种有效的单晶和薄膜生长手段。

基础是研究:为材料科学的基础研究提供关键的实验平台。

其应用价值在于能够处理那些在液相中不稳定、易分解或难以通过蒸馏、重结晶等传统方法提纯的物质,是现代高科技产业中不可或缺的“幕后英雄”设备。 

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