mgo（氧化镁）晶体
发布时间： 2024-04-11 21:52:22 浏览次数：1980
产品介绍：
氧化镁（mgo）是极好的单晶基片而广泛应用于制作铁电薄膜、磁学薄膜、光电薄膜和高温超导薄膜等，由于它在微波波段的介电常数和损耗都很小，且能得到大面积的基片（直径2英吋及更大），所以是当前产业化的重要高温超导薄膜单晶基片之一。 可用于制作移动通讯设备所需的高温超导微波滤波器等器件。我司可提供高纯度的尺寸约2”x2”x 1”的低成本的mgo单晶，采用化学机械抛光制备出高质量原子级表面的基片。
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产品名称 | 氟化镁(mgf2)晶体基片 |
技术参数 | 晶体结构：四方晶系 |
晶格常数：a=4.62å c=3.04å | |
密度：3.18 g/cm3 | |
熔点：1255 °c | |
硬度：6 mohs | |
热膨胀系数：13.7×10-6/℃ | |
折射率：no=1.3836 ne=1.3957 | |
透光波长：110-7500nm | |
透过率:>93% @5μm ； >85% @ 0.2μm | |
温度系数( dh / dt x 10-6 )2.3 ~1.7 @ 0.4 m | |
生长方法：坩埚下降法 | |
产品规格 | 常规晶向： |
常规尺寸： 10x10x0.5mm；10x5x0.5mm、5x5x0.5mm | |
抛光情况：单抛、双抛、细磨 | |
抛光面粗糙度：< 15a | |
注：可按客户要求定制方向和尺寸。 | |
晶体缺陷 | 人工生长单晶有可能存在晶体内部缺陷。 |
标准包装 | 1000级超净室，100级超净袋或单片盒封装 |
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黄经理: 188-3829-0748
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