化学气相沉积cvd一体机
发布时间： 2021-04-14 18:17:11 浏览次数：3750
设备简介：
化学气相沉积(cvd)是指化学气体或蒸汽在基质表面反应合成涂层或纳米材料的方法，是半导体工业中应用最为广泛的用来沉积薄膜材料的技术，包括大范围的绝缘材料，以及大多数金属材料和金属合金材料。为此我们研发成套的cvd镀膜系统，适用于各大高校材料实验室、科研院所、环保科学等领域；
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设备特点 1.炉体与控制系统集成一体化，使试验方便快捷直观。 2.配置浮子流量计或质量流量计混气气路，可以单独设置气体流量。 3.精确pid程序多段控制，实现不同工艺多段温度时间监控。 4.炉衬采用高纯氧化铝轻质纤维材料，保温效果极佳。 5.配备机械泵或分子真空泵，可以实现不同的真空条件。 | |||||||||
产品型号 | nbd-t1700-80tig3z | |||||||||
工作温度 | ≤1650℃ | |||||||||
加热区尺寸 | 310mm | |||||||||
| 恒温区尺寸 | 220mm | |||||||||
升温速率 | ≤20℃/min | |||||||||
电气规格 | ac220 4.5kw | |||||||||
| 控制系统 |  | 1、烧结工艺曲线设置：动态显示设置曲线，设备烧结可预存多条工艺曲线，每条工艺曲线可自由设置； | ||||||||
气体系统（可选购） | 流量计类型 | 浮子流量计 | 质量流量计 | |||||||
管道示意图 |
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进气接口数量 | 2、3、4（多路可选） | |||||||||
流量范围 | 20-200/60-600l/min(多量程可选) | 50/100/200sccm(多量程可选) | ||||||||
工作压差范围 | 0-0.15mpa | |||||||||
低真空系统（可选购） | 真空泵型号 | nbd-1.5c | nbd-3c | nbd-4c | ||||||
抽气速率 | 1l/s | 3l/s | 4l/s | |||||||
进排气口尺寸 | φ8mm宝塔接头 | φ8mm宝塔接头 | kf16/25 | |||||||
极限压力 | 1000pa | 100pa | 10pa | |||||||
工作温度 | 5-40℃ | |||||||||
电气规格 | ac220v | |||||||||
分子泵高真空系统 （可选购） | 分子泵系统型号 | nbd-103(a) | nbd-103(b) | nbd-103(c) | ||||||
抽气速率 | 110l/s | 600l/s | 700l/s | |||||||
真空测量计 | 复合真空计 | |||||||||
极限压力 | 10^-3pa | 10^-4pa | 10^-5pa | |||||||
工作温度 | 5-40℃ | |||||||||
电气规格 | ac220v | ac 220v | ac 380v | |||||||
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