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多温区cvd系统

发布时间: 2020-07-02 07:45:00    浏览次数:4050

设备简介:

多温区cvd系统一体炉,供气和真空系统灵活组合,满足各类薄膜沉积,是半导体工业中应用最为广泛的用来沉积薄膜材料的技术,包括大面积的绝缘材料,以及大多数金属材料和金属合金材料。诺巴迪成套的cvd镀膜系统,适用于各大高校材料实验室、科研院所、环保科学等领域。

  

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设备特点:

1.采用高纯石英或不锈钢材质炉管,耐腐蚀耐高温性能优越;

2.高纯度al2o3纤维耐火保温材料,保温效果优越,降低设备功耗;

3.炉体采用双层风冷结构工艺,自动抬升系统开启上盖;

4.nbd-101ep嵌入式操作系统中英文互换图形界面,7寸真彩触屏输入,智能式人机对话模式,实时加热功率显示,非线性式样温度修正;实验报告自主生成,实验数据无限次导出。

5.一体化设备包含多路供气系统,多温区加热系统和高真空系统;

产品温区

三温区

四温区

五温区

六温区

炉管尺寸

φ25/φ50/φ60/φ80/φ100*1600mm

工作温度

≤1150℃

加热区选择

(可定制)

200mm*3/

200 300 200mm/

200 400 200mm/

300mm*3/

300 400 300mm

200mm*4/

200 300 300 200mm/

200 400 400 200mm/

300mm*4/

300 400 400 300mm

200mm*5/

300mm*5

200mm*6/

300mm*6

升温速率

≤20℃/s

电气规格

ac380v 6~10kw

ac380v 8~14kw

ac380v 10~15kw

ac380v 12~18kw

气体系统(可选购)

浮子或质子

管道示意图

进气接口数量

2、3、4(多路可选)

流量范围

20-250/20-800ml/min.....(多量程可选)

50/100/200/500sccm......(多量程可选)

工作压差范围

0-0.15mpa

低真空系统(可选购)

真空泵型号

nbd-3c/nbd-4c

抽气速率

3l/s或4l/s

进排气口尺寸

kf16/25

系统真空

3~5pa(真空泵极限真空6.2*10-2pa)

工作环境温度

5-40℃

电气规格

ac220v

低真空系统(可选购)

真空泵型号

nbd-103(a)

nbd-103(b)

抽气速率

110l/s

600l/s

真空测量计

复合真空计

系统真空

4.310^-3pa

6*10^-4pa

工作温度

5-40℃

电气规格

ac 220v

ac 380v

设备使用注意事项

一年有限保修,提供终身支持(保修范围内不包括易耗部件,例如处理管和o形圈,请在下面的相关产品处订购更换件。)

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